產品詳情
  • 產品名稱:EMS1250低溫製備(製樣)係統

  • 產品型號: EMS1250
  • 產品廠商:其它品牌
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簡單介紹:
EMS1250 具備一個冷凍腔體和準備腔體。冷凍腔體製備超低溫液氮。製備後的樣本通過有保溫轉製的傳遞機構轉運到準備腔體,然後進行掃描電鏡。準備腔有破碎樣本的裝置,樣本在這裡能夠進行金或碳包被,且不需換頭。雙碳頭也有表麵蝕刻裝置(使用放射輻射源或金屬蒸鍍)。這套低溫樣本製備係統有兩個可控的**加熱器、一個定時器。一個加熱器位於準備腔內,另一個位於掃描電鏡的冷場裡。準備腔和電鏡冷台的溫度保持在零下16
詳情介紹:

EMS1250低溫製備(製樣)係統

 

 

什麼是低溫樣品製備?

 

   在將體積較大的冰凍樣本進行電鏡掃描時,一般要使用低溫掃描電鏡。而掃描前製備樣本時,采用常規方法製備生物樣本時,樣本有時會有破碎或者變形現象發生;此外還可能會有大量的可揮發物質丟失,這勢必會影響X-Ray 微量分析。

     對於上述缺點,EMS1250低溫製樣係統提供了很好的解決辦法,並且我們還能進行液態樣本的觀察分析了,如乳狀液和懸浮液,從前這是根本不可能的。低溫樣本在製備時,我們首先要儘可能的快速冷凍樣本,這有助於降低樣本形態學上的改變,對結構分析是非常重要的;並且也將樣本裡溶質的再分配降到*小。而這些都是影響X-Ray 微量分析結果的本質因素。

     通過儘可能快速到達再結晶點,從而減小冰晶的尺寸,這是快速冷凍的目的。純水的再結晶點溫度在零下130°C,我們把樣本保持在這個溫度之下。快速冷凍常用的方法是將樣本插入液氮之中,以泥濘的液氮形式存在於零下210°C

     對於冰凍樣本,我們要把它們保存在-130°C(再結晶)以下,並且要防止其升華。因此,我們要在冰凍狀態下維持樣本在一個乾淨的不受汙染的空間裡。隨後,冰凍樣本使用製樣係統進行斷裂、蝕刻、金碳包被,然後在掃描電鏡的冷場觀察分析。

     EMS 1250低溫樣本製備係統除了具備上訴所有功能外,並且具備適合各類型號掃描電子顯微鏡的低溫場和真空傳遞係統。

     EMS1250 具備一個冷凍腔體和準備腔體。冷凍腔體製備超低溫液氮。製備後的樣本通過有保溫轉製的傳遞機構轉運到準備腔體,然後進行掃描電鏡。準備腔有破碎樣本的裝置,樣本在這裡能夠進行金或碳包被,且不需換頭。雙碳頭也有表麵蝕刻裝置(使用放射輻射源或金屬蒸鍍)。這套低溫樣本製備係統有兩個可控的**加熱器、一個定時器。一個加熱器位於準備腔內,另一個位於掃描電鏡的冷場裡。準備腔和電鏡冷台的溫度保持在零下160°C以下。

     對於掃描電鏡樣本,避免汙染是非常重要的,EMS 1250低溫製備係統具備優良的防護性能。使用潔淨的無碳氫材料的渦輪增壓分子泵係統,2級旋轉真空泵;圓柱型設計的準備腔確保渦輪增壓的高效及靈活使用腔體內機構。

Features

o        獨立的低溫樣本製備係統

o        渦輪增壓分子泵,免除汙染和碳氫化合物。

o        傳遞機構采用真空閥門。

o        減水、抗蝕、抗腐的液氮腔體。

o        圓柱型準備腔方便操作。

o        低壓冷濺射頭有很高的重複性(金為標準)

o        碳絲燃燒法蒸鍍使用可控的加熱器,蒸鍍頻度按鈕。

o        刀預冷裝置

o        探針預冷裝置。

o        SEM冷場具備溫度和定時的升華加熱器。

o        液氮長期穩定。

o        SEM閥門方便樣本傳遞。

o        微電子控製

o        聚碳酸脂防護

Specifications (Tranfer Unit with)

冷場

With Vacuum Gate Valve and Liquid Nitrogen Dewar 1 Litre Capacity

Weight

16Kg

Total weight of system

82Kg

Sputter Coating

22mm(Dia.)x0.1mm(T) Target (Gold fitted as standard)

Timer

0-4 mins

Sputter Gauge

0-50mA

Carbon Coating

*Deposition 0-10nm/Min Carbon String/Carbon Cord (With Integral Radiant Heater)

Ammeter Gauge

0-50 Amps

Evaporate Button Outgas Control

0-25 Amps

Cooled Knife Assembly

 

Cooled Probe Assembly

 

Specimen Transfer Stub for Multipurpose Application

(Special Stubs Available)

Vacuum Gauge

0-1 x 10-2 mbar

High Vacuum Condition Indicator

 

Turbo Molecular Pump Unit

Better than 1 x 10-5 mbar

Preparation Stage Temperature

Better than-160ºC

Temperature Monitor and Control

-200ºC to 0ºC

Timer

0-20 minutes

Viewing Light Source

Supply

115V 60 Hz (6 Amp Max)
230V 50 Hz (3 Amp Max)

Services

Argon (for Sputtering)

Nominal 4 psi

Nitrogen (for Sputtering)

Nominal 4 psi (Argon can be used if only one gas is required)

Vacuum Pump (Recommended)

Complete with vacuum hose and oil mist filter
135L/Min

Size

470mm (L) x 150mm (W) x 250mm (H)

Weight

23Kg

滬公網安備 31010902002433號